日本OTSUKA玉崎科學(xué)供應(yīng)的大冢（Otsuka）光學(xué)膜厚量測(cè)儀（例如FE-300型號(hào)）主要基于光學(xué)干涉原理進(jìn)行工作。它能實(shí)現(xiàn)非接觸、無(wú)損的高精度薄膜厚度測(cè)量。

為了更全面地了解它的工作原理和特點(diǎn)，可以參考下表：

?? 如何選擇？

大冢（Otsuka）電子還生產(chǎn)其他系列的膜厚測(cè)量?jī)x，例如OPTM系列和GS-300。這些儀器可能在某些方面存在差異：

• OPTM系列：更像是實(shí)驗(yàn)室或集成在線(xiàn)監(jiān)測(cè)的解決方案。它提供了更寬的波長(zhǎng)范圍選擇（例如從深紫外到近紅外），并且最小測(cè)量光斑可以非常?。s3μm-20μm），適合微區(qū)精密測(cè)量（如半導(dǎo)體芯片上的微小結(jié)構(gòu)）。

• GS-300：則專(zhuān)門(mén)用于晶圓厚度和線(xiàn)上膜厚的測(cè)量解析。

如果您需要為研發(fā)或質(zhì)量控制選擇一臺(tái)膜厚儀，需要考慮以下幾點(diǎn)：

1. 膜厚范圍：您需要測(cè)量的薄膜厚度大致在什么范圍？

2. 測(cè)量精度：您對(duì)測(cè)量結(jié)果的精確度要求有多高？

3. 樣品類(lèi)型：您的樣品是單層膜還是多層復(fù)合膜？是否需要同時(shí)測(cè)量光學(xué)常數(shù)（n, k）？

4. 測(cè)量區(qū)域：您的樣品待測(cè)區(qū)域大小如何？是否需要非常小的光斑進(jìn)行微區(qū)測(cè)量？

5. 預(yù)算與功能：您的預(yù)算范圍是多少？是需要臺(tái)式機(jī)、便攜式還是在線(xiàn)集成式？

?? 總結(jié)
大冢（Otsuka）光學(xué)膜厚量測(cè)儀通過(guò)分析光在薄膜上下表面反射產(chǎn)生的干涉效應(yīng)，運(yùn)用精密的光學(xué)系統(tǒng)和強(qiáng)大的算法軟件，實(shí)現(xiàn)了對(duì)多種薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)的高精度、無(wú)損、快速測(cè)量。